До недавнего времени единственным в мире обладателем технологии фотолитографии на жестком ультрафиолете была компания ASML из Нидерландов. Интеллектуальная монополия едва не привела к кризису производства чипов, когда в дело вмешались американские политики и продавили запрет на экспорт технологии в Китай и Россию.
Естественным ответом на такие действия стал процесс создания альтернативных способов производства микросхем.
Фотолитография — процесс перевода изображения на кремниевую пластину или другой материал с помощью ультрафиолетового излучения. Основным принципом фотолитографии является то, что пластина подвергается воздействию ультрафиолетового излучения, которое вызывает изменения в поверхностных свойствах материала. В результате изображение переносится на материал. Фотолитография используется в таких областях, как полиграфия, химическая промышленность и создание микроэлектроники.
На сайте European Patent Office можно найти информацию о патенте на EUV фотолитограф, оформленном компанией Huawei. Патент был оформлен под номером EP3669456. Документ описывает инновационную технологию, которая позволяет использовать высокоэнергетические лучи для производства и исследования микросхем. Также патент предоставляет информацию о применении данной технологии для производства более тонких и прочных полупроводниковых материалов.
Вопрос: Как быстро Huawei сможет создать эффективный EUV фотолитограф? Это зависит от многих факторов, включая время разработки, ресурсы и технологии, которые будут использоваться для создания фотолитографа. Поэтому прогнозировать время завершения работ над таким устройством очень сложно.
Одновременно компания Polyketone (ООО Поликетон) планирует наладить выпуск литографических материалов в Нижегородской области, в рамках проекта «Квантовая долина».
Компания будет заниматься производством и продажей литографических материалов, используемых для производства электронных устройств. На данный момент компания находится в процессе подготовки к запуску производства и продажи литографических материалов.
Предприятие имеет большой опыт в производстве литографических материалов, включая пластиковые пленки, цветные пленки, печатные платы и другие аналогичные материалы.
Планируется 3 этапа проекта:
Этап 1. Разработка полимерных материалов для критических и некритических слоев многослойной структуры под требования технологического процесса с проектными нормами менее 160 нм.
Этап 2. Получение опытных образцов полимерных композиций, тестирование данных материалов на предприятиях производителях ИС. Оптимизация полимерных композиций в соответствии с требованиями и с целью достижения проектных норм 90-60 нм.
Этап 3. Организация опытного производства исходных полимерных материалов и приготовления готовых полимерных композиций для критических и не-критических слоев литографического процесса с проектными нормами менее 90 нм. Формирование ТУ и описания методик синтеза исходных полимерных компонентов. Отработка методик контроля готовых полимерных композиций согласно требованиям микроэлектронной промышленности.
Орбитальный аппарат обнаружил «пауков» на поверхности Марса
Но это далеко не те паукообразные, которых мы боимся или обожаем на Земле....