Война чип-технологий рождает новых игроков

До недавнего времени единственным в мире обладателем технологии фотолитографии на жестком ультрафиолете была компания ASML из Нидерландов. Интеллектуальная монополия едва не привела к кризису производства чипов, когда в дело вмешались американские политики и продавили запрет на экспорт технологии в Китай и Россию.

Естественным ответом на такие действия стал процесс создания альтернативных способов производства микросхем.

Фотолитография — процесс перевода изображения на кремниевую пластину или другой материал с помощью ультрафиолетового излучения. Основным принципом фотолитографии является то, что пластина подвергается воздействию ультрафиолетового излучения, которое вызывает изменения в поверхностных свойствах материала. В результате изображение переносится на материал. Фотолитография используется в таких областях, как полиграфия, химическая промышленность и создание микроэлектроники.

На сайте European Patent Office можно найти информацию о патенте на EUV фотолитограф, оформленном компанией Huawei. Патент был оформлен под номером EP3669456. Документ описывает инновационную технологию, которая позволяет использовать высокоэнергетические лучи для производства и исследования микросхем. Также патент предоставляет информацию о применении данной технологии для производства более тонких и прочных полупроводниковых материалов.

Вопрос: Как быстро Huawei сможет создать эффективный EUV фотолитограф? Это зависит от многих факторов, включая время разработки, ресурсы и технологии, которые будут использоваться для создания фотолитографа. Поэтому прогнозировать время завершения работ над таким устройством очень сложно.

Одновременно компания Polyketone (ООО Поликетон) планирует наладить выпуск литографических материалов в Нижегородской области, в рамках проекта «Квантовая долина».

Компания будет заниматься производством и продажей литографических материалов, используемых для производства электронных устройств. На данный момент компания находится в процессе подготовки к запуску производства и продажи литографических материалов.

Предприятие имеет большой опыт в производстве литографических материалов, включая пластиковые пленки, цветные пленки, печатные платы и другие аналогичные материалы.

Планируется 3 этапа проекта:

Этап 1. Разработка полимерных материалов для критических и некритических слоев многослойной структуры под требования технологического процесса с проектными нормами менее 160 нм.

Этап 2. Получение опытных образцов полимерных композиций, тестирование данных материалов на предприятиях производителях ИС. Оптимизация полимерных композиций в соответствии с требованиями и с целью достижения проектных норм 90-60 нм.

Этап 3. Организация опытного производства исходных полимерных материалов и приготовления готовых полимерных композиций для критических и не-критических слоев литографического процесса с проектными нормами менее 90 нм. Формирование ТУ и описания методик синтеза исходных полимерных компонентов. Отработка методик контроля готовых полимерных композиций согласно требованиям микроэлектронной промышленности.